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京都薄膜応用技術研究所、ITO膜を超える低抵抗・高透過の新導電膜を開発

日刊工業新聞より。
京都薄膜応用技術研究所、ITO膜を超える低抵抗・高透過の新導電膜を開発

 京都薄膜応用技術研究所が透明導電材料で主流のインジウム・スズ酸化物(ITO)膜を超える
低抵抗、高透過率の導電膜を開発、9月にもサンプル出荷すると報じられています。
低温プロセスで高分子フィルムに成膜可能との事で、太陽電池の光電変換効率向上や、有機ELなど
フレキシブルディスプレー向けに提案するとの事。
同社は(株)清水製作所の薄膜事業部門から設立された会社です。
同社の強みとしてはN-MHVスパッタ法と呼称しているスパッタ方式で、
対向カソードと垂直に基板を配置し、基板側を広げ、Arガスを基板側に吹き付けるようにガスを
放出することでスパッタ粒子による膜へのダメージを低減しているようです。

図FTSソードとN-MHVスパッタカソードの概略図
N-MHVスパッタ法

また同社はナノオーダーの金属薄膜の成膜を得意としているようですので
今回の透明導電膜についても金属積層薄膜であると思われます。

縦型搬送方式のRolltoRoll方式のスパッタ装置も開発している模様です。

N-MHVスパッタ法 縦型搬送システム


(株)清水製作所
http://www.shimizu-mfg.com/

京都薄膜応用研究所
http://www.sputtering.jp/


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 京都薄膜応用技術研究所(京都市伏見区、安田政智社長、075・631・8509)は、太陽電池やタッチパネルに使われる透明導電材料で、現在主流のインジウム・スズ酸化物(ITO)膜を超える低抵抗、高透過率の導電膜を開発、9月にもサンプル出荷する。低温プロセスで高分子フィルムに成膜、太陽電池の光電変換効率向上や、有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)などフレキシブルディスプレー向けに提案する。2015年に1億円超の売り上げを目指す。

京都薄膜応用研究所 テストプラント
ロールツーロール方式のテストプラント

 6月に約1億円を投じてロールツーロール方式の「スーパー透明導電膜」テストプラントを完成した。量産技術の確立に向けて調整を進めている。
300ミリメートル幅の基材に連続成膜できるようになったことで
量産を前提にした技術提案に着手する。
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透明導電膜の技術透明導電膜の技術
(2006/12)
日本学術振興会透明酸化物光電子材料第166委員会

商品詳細を見る
透明導電膜について理論の基礎から応用まで幅広くカバーしている一冊。
メインはITOなどの無機膜の材料・スパッタ方法・ドライ/ウェットエッチング技術に
関してが記載されています。
透明導電膜はとかく応用分野へ注目が集まりがちな分野ですが、
基礎から勉強しなおしたい、新しく勉強したいという方には
適切な一冊だと思います。
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