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四国化成 銅錯体ペースト開発 室温で長期保存可能

化学工業日報より。
四国化成 銅錯体ペースト開発 室温で長期保存可能

 四国化成工業が導電性銅錯体ペーストを開発したと報じられています。
錯体化したことで金属粒子を含まないため、酸化が起こらず室温で半年以上の安定性を示しているとの事。
また窒素雰囲気下120℃で銅箔層を焼成できるそうです。窒素雰囲気下というのがネックになりそうですね。
薄膜状態での導電率などその他の特性が気になるところです。

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 四国化成工業は、導電性銅錯体ペーストを開発した。ディスプレイ配線や太陽電池電極、シード層の用途を見込んでおり、錯体化したことで金属粒子を含まないのが特徴。酸化などが起こらず、室温で半年以上の長期安定性を示す。窒素雰囲気下、120度C程度の低温で銅箔層を高速焼成できるためポリエチレンテレフタレート(PET)などに対応可能。現在、顧客評価を進めており、新規導体形成材料として早期実用化を目指す。
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