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大日印、電子光線26万本のフォトマスク製造装置 上福岡工場に導入

日刊工業新聞
大日印、電子光線26万本のフォトマスク製造装置 上福岡工場に導入

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大日本印刷(DNP)は約26万本の電子光線で半導体のフォトマスクを描画する
「マルチ電子ビームフォトマスク製造装置」を上福岡工場に導入し、4月に量産を始めるとしています。
複数の光線を照射することで、描画時間を8時間以上短縮できるとしており、複数の光線を用いる描画は
世界的に珍しいとのこと。2019年に年60億円の売り上げを目指すとしています。


フォトマスクは電子回路パターンを描く原板で、ガラスや石英などで形成されます。
従来は単一の電子光線で原板にパターンを描画していました。

導入した装置は電子銃とレンズの間に露光量を制御する特殊なフィルターを挟み、
複数の光線照射を可能にしています。これによりフォトマスクの生産時間を短縮できるとのこと。
主に7nmの回路パターン向けで、複雑な描画に対応するとしています。

DNPは12年から米インテルや米フォトロニクスなど5社と共同で、複数の光線を用いた
フォトマスク製造装置を研究していました。同装置は共同開発の成果で、次世代半導体のフォトマスク製造向けに使用。
現在の半導体フォトマスクは、10-14nmの回路パターンが多いですが、19年以降の次世代半導体は
7nmが主流になると言われています。

また半導体業界では複数のフォトマスクでシリコンウエハーを作る多重露光技術や、
複雑な回路パターンをフォトマスクに施す光学補正技術などの利用が増えています。特に7nmプロセスは、
フォトマスクの枚数や複雑な描画が増加すると予想されており、フォトマスク生産の効率化は
喫緊の課題となっていました。

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