大日本印刷、3D構造NAND型向けナノインプリントの型を量産(追記)

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大日本印刷、3D構造NAND型向けナノインプリントの型を量産

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大日本印刷は、3D構造のNAND型フラッシュメモリーの回路パターンを形成する際に使用が見込まれる
ナノインプリントリソグラフィ(NIL)のテンプレート(型)の量産体制を強化すると発表しています。
40億円の追加設備投資を実施し、NAND型フラッシュメモリーの大幅な需要増加と低コスト化に対応するとのことで
NILテンプレートで2019年に約100億円の売り上げを目指すとしています。


従来のフォトリソグラフィー技術による半導体製造方法は、工程が複雑な3D構造への対応が困難で、
製造装置が高価になるなど、製造コストの増加が課題になっていました。NILを活用した製造方法は、
テンプレートから直接回路パターンを転写して複写するため、高価な光学系の設備を使わず、比較的安価な
露光装置で製造できます。また、製造工程を簡略化できるため、約3分の1のコストダウンにつながるとのこと。

同社は、2003年からNILプロセスに必須のテンプレートの開発を行ってきていました。
これまでに70億円の投資を実施して2015年には回路線幅20nmのテンプレートの量産体制を確立。
また、次世代半導体に向けて10nm台のNIL用の原版となるマスターテンプレートおよび、マスターテンプレートを
複製するレプリカテンプレートの開発に成功しています。
今回の追加投資により、10nm台のNIL用テンプレートの生産体制を増強するとしています。

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OPTRONICS ONLINE:DNP,ナノインプリント型生産に40億を追加投資

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