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日本曹達 ITOで新技術「3次元基板に均一成膜」

化学工業日報より。
日本曹達 ITOで新技術「3次元基板に均一成膜」

日本曹達1


日本曹達は、液晶ディスプレイや光学部品に用いられるインジウム・スズ酸化物(ITO)成膜の新技術を開発した。同社独自のパイロゾル法を発展させたもので、既存のスパッタ法などでは難しいとされる高アスペクト比の3次元構造基板にも均一に成膜することができる。
新技術の開発にともない、千葉工場(千葉県市原市)でITO成膜の受託加工サービスを開始した。今後、配線の微細化が進む半導体など電子分野を中心に用途を開拓する。


日本曹達は独自のバイロゾル法によりアスペクト比の高い部材に均一にITO(Indium Tin Oxide)を
成膜できる技術を開発したと発表しています。
スパッタによる成膜方式ではコサイン則によりアスペクト比の高い箇所には均一な成膜ができません。
記事にもあるように半導体のような複雑な立体構造を持つ構成の部材に適した技術といえると思われます。
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