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有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力ランキング 

パテントリザルト社HPより(2012年2月7日)
有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力ランキング 
直近5年間ではコニカミノルタHDが大躍進


有機ELディスプレイは、液晶に代わる次世代ディスプレイとして有望視されており、
近年、スマートフォンを筆頭にタブレット端末、デジカメなどに採用され、急速に普及し始めています。
スマートフォン等に利用されている有機ELディスプレイの成膜では主に低分子の発光材料を用いた、
真空蒸着に代表されるドライプロセスを採用していますが、この方式を大型ディスプレイに用いることは、
製造上の問題から困難であるとされています。

 一方、ウェットプロセスは、ドライプロセスと比べてパネルサイズの大型化が可能であり、
生産性も高い技術であると期待されています。

 そこで弊社は、有機EL 成膜技術のうち、ウェットプロセスが関連する技術に注目し、
参入企業の競争力に関する調査を行いました。
1993年から2011年12月末までに日本の特許庁で公開された関連特許5,837件を対象に、
個別特許スコアリング指標「パテントスコア」による評価を、現在、2006年末の2つの時点で実施し、
各時点での特許の質と量から総合的に見た「特許総合力ランキング」を集計しました。

有機EL 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力トップ5(パテントリザルト社のデータを元に管理人が作成)
有機ELディスプレイ 成膜技術(ウェットプロセス) 特許総合力ランキング

 集計の結果、1位 セイコーエプソン
次いで2位 半導体エネルギー研究所
3位 コニカミノルタHDとなりました。

 1位 セイコーエプソンは、出願件数、総合力ともに圧倒的な強さを見せています。
同社は2002年から2005年の期間に件数を伸ばしました。

 また、直近5年間の特許総合力ランキングの変化では、
コニカミノルタHDが30 → 3位、パナソニックが15 → 4位と、大きく順位を上げる結果となりました。

有機ELディスプレイ 成膜技術(ウェットプロセス)パテントスコア


インクジェット関連技術だと思いますが
セイコーエプソンはウェットプロセスで圧倒的な強みを持っているようです。

またパナソニックが近年でスコアを上げているのも注目です。
以前の記事のように、大型有機ELにおいてパナソニックはウェットプロセスでの作成を行っており、
特許の面からも開発を進めてきていた様子が伺えます。

またコニカミノルタについては特許から見るに近年非常に有機ELに力を入れている様子が伺えます。
応用製品として照明用途で有機ELを活用しようとしているようです。
詳細は次の記事参照いただければと思いますが、
コニカミノルタ社のHPでも機能材料事業の製品群の中に有機EL照明があります。
ブランド名:Symfos[シンフォス]として2011年に製品として発売済みです。
http://www.konicaminolta.jp/symfos/index.html
更に「未来のあかりプロジェクト」と題してデザイナーとコラボレーションを行ったりと
世間への有機EL照明の周知を積極的に行っています。
研究開発においても特にページを割いてリン光型有機EL照明・青色リン光材料の解説をしています。
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  • 2013/1よりディスプレイ周りの技術情報を掲載。

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