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【ナノテク展】東芝、グラフェンとAgナノワイヤの複合透明電極を大面積化

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【ナノテク展】東芝、グラフェンとAgナノワイヤの複合透明電極を大面積化


130131_東芝_透明導電膜 130131_東芝_透明導電膜の分散液

東芝は、展示会「nano tech 2013」にグラフェンと銀(Ag)ナノワイヤを共に
塗布プロセスで成膜した透明導電膜を出展した。
同社は2012年9月にこの透明導電膜を発表しているが、当時より大面積のものを作製できたという。

東芝が「nano tech 2013」にAgナノワイヤとグラフェンを組み合わせた透明導電膜を展示しているようです。
特性は下記になります。
シート抵抗値 4.9Ω/□
透過率 T>75%(@550nm)

作成方法は
ガラス基板上に酸化グラフェン分散液を塗布→還元→Agナノワイヤ分散根気を塗布→剥離してフィルム上に転写

昨日の記事で紹介した透明導電フィルムと構成は似ていますが、作成方法が異なるようです。


>
Agナノワイヤは導電性を高めるにはよいが、塗布法で透明導電膜を作製した場合は光透過率がトレードオフになりやすい。また、空気中の硫黄(S)と化合して劣化しやすいという課題もあった。

 一方、グラフェンはキャリア移動度は高いが、キャリア密度が小さい上に、欠陥のないシートを作製することは容易ではないため、導電性は比較的低い。特に、塗布プロセスが利用できる、酸化グラフェンを還元して作製するグラフェン・シートは欠陥や粒界が多いため、シート抵抗値は数百Ω/□かそれ以上と非常に高くなる。一方で、グラフェンには高いバリア性能があることが知られている。

 東芝は、このAgナノワイヤの高い導電性とグラフェンの高いバリア性能を組み合わせて、透明導電膜としての性能と耐久性の高さを両立させることを狙い、今回の透明導電膜を作製したとする。シート抵抗値は4.9Ω/□、光透過率75%以上(波長550nmの場合)、シートの寸法は10cm角である。2012年9月に発表した際の寸法はおよそ3cm×2cmほどだった。

 作製手順はこうだ。まず、ガラス基板上に酸化グラフェン粉末を分散させた溶液を塗布し、それを還元する。次に、Agナノワイヤを分散させた溶液を塗布して成膜する。その後、剥離してフィルム上に転写するという。


カーボンナノチューブ・グラフェン (最先端材料システムOne Point 1)カーボンナノチューブ・グラフェン (最先端材料システムOne Point 1)
(2012/06/22)
高分子学会

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