富山県立大、リソグラフィプロセス向け植物由来の水溶性レジスト材料を開発

日刊工業新聞
富山県立大、リソグラフィプロセス向け植物由来の水溶性レジスト材料を開発

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開発したレジストパターン(富山県立大提供)

富山県立大学工学部機械システム工学科の竹井敏准教授、花畑誠客員教授は、
基板上にフォトレジストのパターンを形成するリソグラフィプロセス向けに、
植物由来の水溶性高分子材料を開発したと報じられています。


波長が365nmと比較的低エネルギーの光でも線幅300nmパターンの高解像度で、
アルカリ現像液などを使う従来工法に比べて、電子デバイス製造の低コスト化や環境負荷低減につながるとのこと。

リソグラフィプロセスは、10nmオーダーの次世代半導体製造やディスプレー、バイオセンサーなど
電子デバイス製造で重要な技術となっています。ただ水溶性レジスト材料にはこれまで、
含水率の増加、材料の膨張によるパターン寸法の異常発生などの問題がありました。

今回、機械的強度を向上するため、糖鎖やセルロース化合物などの植物性原料を使用。
酵素によって分解・分離・精製し、水溶性ながら基板への密着性がよく、
微細加工可能な分子量に調整したとのことです。
既存のレジスト材料はアクリル樹脂やエステル樹脂などの石油由来の原料が主成分。
現像液にはテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)が使用され、
悪臭の発生や廃液処理に伴って環境負荷が多くなるのが問題でした。

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