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山口大、独自開発のスパッタ装置で基板を加熱せずITO透明電極膜を作製

日刊工業新聞
山口大、独自開発のスパッタ装置で基板を加熱せずITO透明電極膜を作製

Yamaguchi-univ_hybrid-spatter_image.jpg
開発したハイブリッド対向スパッタを操作する諸橋教授

山口大学大学院理工学研究科の諸橋信一教授は独自開発のスパッタ(成膜)装置を使って、
基板を加熱することなく低抵抗率・高透過率の「インジウム・スズ酸化膜(ITO)透明電極膜」を作製しています。
LEDや太陽電池用の電極膜が高額で複雑な設備を使わずに作製できるとのこと。


LEDなどの薄膜材料は、硬くて重いガラス基板から薄くて軽い
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどにシフトが進んでいます。
一般的なスパッタ装置では数百℃に基板を加熱する必要がありますが、高温や処理剤で基材が損傷するなど
作製過程で課題が多いとされています。諸橋教授のグループは方式が異なる2種類の
スパッタ装置の原理を応用しています。

Yamaguchi-univ_hybrid-spatter_image2.jpg

「ハイブリッド対向スパッタ」と名付けた装置は、内部の可動棒磁石を左右対称・非対称に移動させることで
対向ターゲット間の磁場分布を変化させ、薄膜作製に最適な磁場分布やプラズマ状態を形成します。
基板の水冷は不要でレジストの損傷もなく「毎分142nmの速度で堆積可能なITO透明電極膜が形成できる」とのこと。
将来は、山口ティー・エル・オー(山口県宇部市)を通じて民間企業に量産装置として技術移転したい考えのようです。

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