東レエンジニアリングが「ロールツーロールバリアフィルム製造装置」を開発
日刊工業新聞より。
東レエンジ、「ロール・ツー・ロールバリアフィルム製造装置」を開発

開発した「RtoRバリアフィルム製造装置」
東レエンジニアリングが「ロールツーロール(RtoR)バリアフィルム製造装置」を開発したと報じられています。
従来装置よりも倍の550m2/dayの生産能力を持ち、1m2当たりのコストは\1000以下に抑えられるとしています。
また、両面成膜を行うことで水蒸気透過率は10^-5g/m2/dとしており、
有機EL向けに適用可能なレベルになっているようです。膜厚が気になるところですね。
成膜方法はプラズマ化学気相成長(CVD)をベースにした「ラジカルCVD」を採用したことにより
プラズマによるダメージがなく、デバイスへの直接成膜が可能で80℃~150℃の低温製膜に対応しているそうです。
バリアー膜とバッファー膜を組み合わせ、バッファー膜を工夫することで、
400~900nmの波長領域において最大で2%光透過性を高められるとしています。
素材はPEN(ポリエチレンナフタレート)やPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムなどに対応しているとの事。
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新成膜技術を開発 世界初大型タッチパネルへ応用も ロック技研工業(八街市)

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従来装置よりも倍の550m2/dayの生産能力を持ち、1m2当たりのコストは\1000以下に抑えられるとしています。
また、両面成膜を行うことで水蒸気透過率は10^-5g/m2/dとしており、
有機EL向けに適用可能なレベルになっているようです。膜厚が気になるところですね。
成膜方法はプラズマ化学気相成長(CVD)をベースにした「ラジカルCVD」を採用したことにより
プラズマによるダメージがなく、デバイスへの直接成膜が可能で80℃~150℃の低温製膜に対応しているそうです。
バリアー膜とバッファー膜を組み合わせ、バッファー膜を工夫することで、
400~900nmの波長領域において最大で2%光透過性を高められるとしています。
素材はPEN(ポリエチレンナフタレート)やPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムなどに対応しているとの事。
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